Ionenstrahllithographie

Ionenstrahllithographie: Ionenstrahllithographie,

Verfahren der Halbleitertechnologie zur Übertragung von Schaltkreismustern integrierter Schaltungen auf einen Wafer, bei dem (statt UV-Licht, Röntgen- oder Elektronenstrahlen) Ionenstrahlen eingesetzt werden (Lithographie). Dadurch sind Linienbreiten der Leitungsbahnen im Submikrometerbereich möglich. Vorteile gegenüber den anderen genannten Strahlen sind die gute Fokussierbarkeit, der Wegfall von Beugungsproblemen, keine Rückstreuung wie bei den leichteren Elektronen (kein Proximity-Effekt) sowie die Durchführung von selektiver Dotierung durch Ionenimplantation und Ionenstrahlätzen in einer Anlage.

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Focused Ion Beam — Foto eines FIB Arbeitsplatzes Ein Focused Ion Beam (Abk.: FIB; englisch für „fokussierter Ionenstrahl“, deutsch auch Ionenfeinstrahlanlage) ist ein Gerät zur Oberflächenanalyse und bearbeitung. Steht der Materialabtrag im Vordergrund, heißt das… … Deutsch Wikipedia
Lithographie — Lithografie; Steindruck * * * Li|tho|gra|phie 〈f. 19〉 = Lithografie * * * I Lithographie, in der EDV Synonym für Fotolithographie, Chipherstellung. II Lithograph … Universal-Lexikon
Ionenstrahlen — Ionenstrahlen, aus sehr schnell in einer bestimmten Richtung bewegten Ionen bestehende Teilchenstrahlen. Dabei können sich Ionenstrahlen nach Atomart, Ladungszustand und Energie unterscheiden. Auch aus »nackten« Atomkernen gebildete Strahlen,… … Universal-Lexikon

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